中村修二

美籍日裔材料学家,诺贝尔物理学奖得主,美国国家科学院院士,加州大学圣塔芭芭拉分校教授
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中村修二(日文平假名:なかむら しゅうじ,英文名:Shuji Nakamura),1954年5月22日出生于日本 爱媛县 ,美籍日裔材料学家,“ 蓝光LED ”之父,诺贝尔物理学奖得主,美国国家工程院院士,加州大学圣塔芭芭拉分校教授。 [1-2] [5]
中村修二于1977年被 德岛大学 授予电子工程学士学位;1979年被德岛大学授予电子工程硕士学位。同年加入德岛日亚化学工业株式会社;1988年作为访问研究员在 佛罗里达大学 学习;1994年被德岛大学授予工程学博士学位;1999年离开日亚化学工业株式会社;2000年加入 加州大学圣塔芭芭拉分校 材料系担任教授;2001年被任命为加州大学圣塔芭芭拉分校固态照明和显示中心Cree讲席教授;2003年当选为 美国国家工程院院士 ;2014年因发明蓝色发光二极管(LED)的贡献被授予 诺贝尔物理学奖 [1-2]
中村修二致力于高效蓝色发光二极管和蓝色激光二极管的研究。 [1]
中文名
中村修二
外文名
なかむら しゅうじ
Shuji Nakamura
国    籍
美国
出生地
日本爱媛县伊方町
出生日期
1954年5月22日
毕业院校
德岛大学
职    业
教育科研工作者
主要成就
2003年当选为美国国家工程院院士
2014年获得诺贝尔物理学奖
学    历
研究生
学    位
博士

人物经历

1977年,被德岛大学授予电子工程学士学位。
1979年,被德岛大学授予电子工程硕士学位。同年,加入德岛一家小公司日亚化学工业株式会社(Nichia Chemical),最初从事生长用于LED的磷化镓和砷化镓晶体的工作。 [1-2]
1988年,向日亚化学工业株式会社时任CEO小川信夫申请超过300万美元的资金,并要求在 盖恩斯维尔 的佛罗里达大学学习一年,以学习用于生产蓝色LED半导体的金属有机化学气相沉积技术,得到了小川信夫同意。同年,作为访问研究员在佛罗里达大学学习。 [1-2]
1994年,被德岛大学授予工程学博士学位。同年,开始致力于使用氮化镓生产蓝色激光二极管。
1999年,离开日亚化学工业株式会社。 [1]
2000年,加入加州大学圣塔芭芭拉分校材料系担任教授。
2001年,被任命为加州大学圣塔芭芭拉分校固态照明和显示中心Cree讲席教授(Cree公司赞助)。
2003年,当选为美国国家工程院院士。 [1-2]
2008年,与人共同创办Soraa公司,该公司在加州硅谷和圣塔芭芭拉设有一体化的制造设施。 [2]
2013年,与Steven DenBaars教授、James Raring博士和Paul Rudy博士共同创办SLD Laser公司,致力于蓝色激光和激光照明产品。SLD Laser于2021年初被 京瓷公司 收购。 [1] [3]
2014年,因发明蓝色发光二极管(LED)而与日本材料科学家 赤崎勇 天野浩 共享诺贝尔物理学奖。 [1]

主要成就

科研成就

发表时间
文章标题
刊物名称
1989年
Transient-mode liquid phase epitaxial growth of GaAs on GaAs-coated Si substrates prepared by migration-enhanced molecular beam epitaxy
《晶体生长杂志》(Journal of Crystal Growth)
1990年
High-power and high-efficiency P-GaAlAs/N-GaAs: Si single heterostructure infrared emitting diodes
《日本应用物理学杂志》(Japanese Journal of Applied Physics)
1991年
Novel metalorganic chemical vapor deposition system for GaN growth
《应用物理快报》(Applied Physics Letters)
1991年
Analysis of real-time monitoring using interference effects
《日本应用物理学杂志》(Japanese Journal of Applied Physics)
1991年
In situ monitoring of GaN growth using interference effects
《日本应用物理学杂志》(Japanese Journal of Applied Physics)
1991年
GaN growth using GaN buffer layer
《日本应用物理学杂志》(Japanese Journal of Applied Physics)
1991年
Highly P-typed Mg-doped GaN films grown with GaN buffer layers
《日本应用物理学杂志》(Japanese Journal of Applied Physics)
1991年
High-power GaN P-N junction blue-light-emitting diodes
《日本应用物理学杂志》(Japanese Journal of Applied Physics)
1992年
Thermal annealing effects on P-type Mg-doped GaN films
《日本应用物理学杂志》(Japanese Journal of Applied Physics)
1992年
Hole compensation mechanism of P-type GaN films
《日本应用物理学杂志》(Japanese Journal of Applied Physics)
1992年
In situ monitoring and hall measurements of GaN growth with GaN buffer layers
《应用物理杂志》(Journal of Applied Physics)
1992年
Si- and Ge-doped GaN films grown with GaN buffer layers
《日本应用物理学杂志》(Japanese Journal of Applied Physics)
参考资料: [6]

人才培养

荣誉表彰

获奖时间
荣誉表彰
授予单位
1995年
樱井奖
1996年
西田纪念奖
西田纪念财团
1996年
IEEE激光与电光学学会工程成就奖
IEEE激光与电光学学会
1996年
信息显示学会特别表彰奖
信息显示学会
1997年
大河内纪念奖
大河内纪念基金会
1997年
材料研究学会奖章
材料研究学会
1998年
实材创新奖
日本应用物理学会
1998年
C&C奖
日本电气股份有限公司计算与通信(NEC C&C)基金会
1998年
IEEE杰克·A·莫顿奖
1998年
英国兰克奖
英国兰克基金会
1999年
尤利乌斯-斯普林格应用物理奖
施普林格 出版社
2000年
高柳奖
日本真空学会
2000年
卡尔·蔡司研究奖
卡尔·蔡司基金会
2000年
本田奖
本田财团
2000年
晶体生长与晶体技术奖
晶体生长协会
2001年
朝日奖
2001年
OSA尼克·霍洛尼亚克奖
光学学会
2001年
LEOS杰出讲师奖
IEEE激光与电光学学会
2002年
IEEE/LEOS量子电子学奖
IEEE激光与电光学学会
2002年
富兰克林研究所本杰明·富兰克林工程奖章
富兰克林研究所
2002年
武田奖
武田科学基金会
2002年
经济学人创新奖
2002年
世界技术奖
世界技术网络
2003年
复合半导体先锋奖
复合半导体协会
2003年
国家工程院院士
美国国家工程院
2003年
蓝光谱先锋奖
蓝光谱基金会
2004年
信息显示学会卡尔·费迪南德·布劳恩奖
信息显示学会
2006年
千禧技术奖基金会
2007年
圣巴巴拉地区商会年度创新者奖
圣巴巴拉地区商会
2007年
乔治·克佐赫拉斯基奖
欧洲材料研究学会
2008年
阿斯图里亚斯亲王技术科学研究奖
阿斯图里亚斯亲王基金会
2009年
哈维奖
2011年
技术与工程艾美奖
美国电视艺术与科学学院
2012年
硅谷知识产权法协会年度发明家奖
硅谷知识产权法协会
2013年
LED先锋奖
国际LED协会
2013年
LUX年度人物奖
LUX研究公司
2013年
国际固态照明联盟全球SSL发展杰出成就奖
国际固态照明联盟
2014年
诺贝尔物理学奖
2014年
日本文化勋章
日本政府
2014年
戈莱塔商会特别表彰
戈莱塔商会
2015年
查尔斯·斯塔克·德雷珀工程奖
美国国家工程院
2015年
日本应用物理学会名誉会员
日本应用物理学会
2015年
日本物理学会名誉会员
日本物理学会
2015年
南海岸商业与技术奖先锋奖
圣巴巴拉奖学金基金会
2015年
全球能源奖
全球能源协会
2015年
亚洲创新领袖奖
2015年
世界之鹰奖
世界之鹰基金会
2015年
日本照明工程学会名誉会员
日本照明工程学会
2015年
日本电子信息学会名誉会员
日本电子信息学会
2015年
日本电气电子工程学会名誉会员
日本电气电子工程学会
2015年
洛杉矶杰出科学与技术奖
亚裔美国工程师协会
2015年
波兰弗罗茨瓦夫大学荣誉博士
2016年
亚洲奖/科学与技术杰出成就奖
亚洲奖基金会
2016年
宾夕法尼亚州立大学纳尔逊·W·泰勒主旨奖
2016年
亚太裔美国人杰出贡献奖
加州 萨克拉门托 政府
2016年
圣毛里齐奥和拉扎罗勋章
意大利政府
2017年
台湾中央研究院院士
2017年
英国工程与技术学会蒙巴顿奖章
英国工程与技术学会
2017年
亚太品牌基金会传奇奖
亚太品牌基金会
2017年
波兰华沙大学荣誉博士
2017年
香港浸会大学荣誉院士
2017年
西班牙梅嫩德斯·佩拉约国际大学荣誉博士
西班牙梅嫩德斯·佩拉约国际大学
2018年
马萨诸塞大学洛厄尔分校荣誉博士学位
2018年
日本第十届岩城奖
岩谷直治纪念财团
2018年
贝尔法斯特女王大学工程科学荣誉博士学位
2019年
马来西亚理科大学荣誉博士
2020年
美国国家科学院工业应用科学奖
美国国家科学院
参考资料: [6]

社会任职

任职时间
任职单位
担任职务
1998年—2000年
应用物理学会(Applied Physics Society)
编辑委员会成员
2000年—
《复合半导体杂志》(Compound Semiconductor Magazine)
编辑委员会成员
2001年—
材料研究学会会议(Materials Research Society Conference Proceedings)
编辑
2002年—
客座教授
2004年—
客座教授
2004年—
客座教授
2007年—2020年10月
名誉访问教授
2007年—
客座教授
2009年—2020年10月
上海固态照明工程技术研究中心
顾问
2009年—2020年10月
顾问教授
参考资料: [6]

个人生活

人物评价

中村修二博士在固态照明方面的成就继续对照明和计算技术产生深远影响。我们今天享受的LED灯泡、显示器、移动设备和大型平板显示器,都要感谢他开创性的研究 (Dr. Nakamura’s achievements in solid-state lighting continue to have far-reaching impact on lighting and computing technology. We all have his pioneering research to thank for the LED light bulb, monitors, mobile devices, and large flat screen displays that we enjoy today)。(加州大学圣塔芭芭拉分校工程学院时任院长Rod Alferness评) [3]
(中村修二)因其在半导体氮化镓方面的技术成就而闻名,他被广泛认为是基于宽带隙半导体氮化镓(GaN)及其与铝和铟合金的发光器件的世界先驱 (Known for his technological achievements with semiconducting gallium nitrides, he is widely recognized as the world pioneer in light emitters based on the wide-bandgap semiconductor gallium nitride (GaN) and its alloys with aluminum and indium)。(加州大学圣塔芭芭拉分校评) [3]